в процессе ионно- плазменной обработки материалов электронной техники с повышенной эффективностью
 
Г.Д. Кузнецов, С.Б. Симакин, А.А. Сергиенко 
Регистрация 204-219-2006 от 17.01.06
 
В перечень подлежащих охране сведений входят:
-         Система создания обратной связи;
-         Система регистрации обратной связи.
Обеспечение повышенной стабильности процессов нанесения и травления тонких пленок и наноразмерных многослойных структур.
Возможна разработка и изготовление устройства стабилизации параметров ионно-плазменных процессов, адаптированного к любому вакууму оборудованию.